GPSZWBG01A
Maskless Lithography Machine
Laser Processing Equipment
Maskless Lithography Machine
Model:GPSZWBG01A
Product Overview
激光直写光刻设备，用于微纳加工。采用无掩膜技术，实现灵活的图案直写，适用于小批量、多品种的微纳结构制造。
Application Areas
- 微纳结构制造
- 半导体器件
- MEMS器件
- 光刻加工
- 图案直写
技术参数
| 分辨率 | 纳米级 |
| 加工幅面 | 可定制 |
| 光源 | 紫外激光 |
| 加工方式 | 激光直写光刻 |
| 掩膜 | 无掩膜 |
常见问题
Q1.无掩膜光刻机GPSZWBG01A的分辨率是多少？
无掩膜光刻机采用激光直写技术，可实现亚微米级分辨率，无需掩膜版即可直接写入微纳结构，适用于快速原型制作和小批量生产。
Q2.无掩膜光刻机适合哪些应用场景？
适用于微纳结构制造、衍射光学元件、微流控芯片、光子晶体、MEMS器件等领域的研发和小批量生产，特别适合需要快速迭代的研发场景。
Q3.无掩膜光刻与有掩膜光刻有什么区别？
无掩膜光刻无需制作昂贵的掩膜版，可直接从CAD数据写入图案，灵活性高、成本低、周期短，适合研发和小批量；有掩膜光刻适合大批量生产。
Q4.GPSZWBG01A支持哪些基底材料？
支持硅片、玻璃、石英、ITO玻璃、柔性基底等多种材料，可配合不同光刻胶使用，满足多样化的微纳加工需求。
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